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半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理

大型项目视频背景 该半导体芯片企业建在长江三角洲型区县,最主要生育89寸大和129寸大晶圆,日排出出废需水量约2000吨。是由于生育工艺设计有难度,废自来水中具有种难吸附有机肥料物和巨资属化合物,民俗处置方式方法不易于具备必将要严格的排出出规则。 废水处理工艺含量及源头 废渣一般从何而来于七个要素:晶圆水刀水刀切割废渣包含非常多硅粉和水刀水刀切割液留;电学机器cnc精密机械加工废渣所含悬浊液硅和打磨科粒;刻蚀拆洗废渣包含氟化物、铜铝离子等高价属;光刻工艺流程废渣则包含光阻剂等有机酸被污染物质。水质监测优缺点是COD高(800-1500mg/L)、氟化物浓度值高(200-400mg/L)、浮动物多且包含轻微高价属。 除理技艺方案 通过"物理化学预除理+生化学除理+深层次除理"的组合起来技术: 调节器池平衡污水水质出水量 混疑析出除掉悬浮物物和固体元素 耐腐蚀水解法特别处置氟化物,添加钙盐养成氟化钙水解 油脂水解过酸池增进焦化废水可生物化学性 学习阳极氧化池可降解巧妙的污物 渗透性炭吸收塔实现长度操作 膜剥离 软件系统为了保证出水出水水环境增强 涉及含铜焦化废水独立快速设置正离子交流机系统,的回收利用有价格的合金铜。 既定的效果 新项目建好后正常运行增强,水流COD<50mg/L,氟化物氧浓度值<5mg/L,铜铁离子氧浓度值<0.3mg/L,某项因素均好于我国《电子技术轻工业水弄脏物排卸准则》(GB 39731-2020)。第年可抑制COD排卸约300吨,氟化物排卸约50吨,出售铜金属材料约2吨,保证了坏境效果分析与市场经济效果分析的共盈。

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